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高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用

簡要描述:【無錫冠亞】制冷加熱控溫系統(tǒng)應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-125
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-12-03
  • 訪  問  量:1303
詳情介紹
品牌冠亞恒溫產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域化工,生物產(chǎn)業(yè),航空航天,制藥/生物制藥,汽車及零部件

高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用

冠亞恒溫制冷加熱控溫系統(tǒng)的技術優(yōu)勢

超寬溫域與高精度控溫

溫度范圍:-120℃至350℃,覆蓋嚴苛工藝需求(如低溫研磨、高溫聚合)。

控溫精度:±0.3℃滿足化工、半導體光刻、生物制藥等嚴苛場景。高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用

全密閉循環(huán)系統(tǒng)設計

介質保護:采用磁力驅動泵與氮氣保護膨脹罐,杜絕導熱油氧化揮發(fā),延長介質壽命。

模塊化與智能化控制

多工況并行:單臺主機可同步控制2-20臺反應釜。高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用

智能算法:前饋PID+無模型自建樹算法,實現(xiàn)快速響應,動態(tài)復現(xiàn)實際路況溫度曲線。

安全防護與定制化能力

多重報警:配備超溫、過載、液位、壓力等安全機制,故障自診斷功能定位問題點。

防爆設計:支持選配,適配易燃易爆化工場景(如氟化反應、硝化反應)。

非標定制:根據(jù)工藝需求調整制冷功率(0.5kW-1200kW)及材質(冷軋板/不銹鋼)。



高低溫循環(huán)裝置-10℃ ~ 200℃實驗室使用



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